Pagrindinės ličio baterijų žinios (2)
(二), neigiamo dozavimo principas (maždaug toks pat kaip ir teigiamas dozavimas)
1. Fizinės ir cheminės žaliavų savybės.
(1) Grafitas: ne poliarinė medžiaga, lengvai užteršiama ne polinėmis medžiagomis, lengvai išsklaidoma ne poliarinėmis medžiagomis; nėra lengva sugerti vandenį ir nėra lengva paskleisti vandenyje. Užterštas grafitas po dispergacijos vandenyje yra lengva pakartotinai aglomeruotis. Bendras dalelių skersmuo D50 yra apie 20 μm. Dalelės yra įvairios formos ir nereguliarios, jos dažniausiai yra sferinės, dribsniai, pluoštinės ir panašios.
(2) Vandeninis rišiklis (SBR): mažos molekulinės linijinės grandinės emulsija, labai gerai tirpi vandenyje ir poliariniuose tirpikliuose.
(3) anti-nusodinimo agentas (CMC) - polimerinis junginys, lengvai tirpus vandenyje ir poliariniuose tirpikliuose.
(4) izopropanolis: silpnai poliarinė medžiaga, kuri sumažina rišiklio tirpalo poliškumą ir pagerina grafito ir rišiklio suderinamumą; jis turi stiprų defoaming efektą; Kryžminio ryšio grandinė pagerina sukibimo stiprumą.
Etanolis: silpnai poliarinė medžiaga, kuri sumažina rišiklio tirpalo poliškumą ir pagerina grafito ir rišiklio tirpalo suderinamumą; turi stiprų defoaming efektą; lengvai katalizuoja linijinį rišiklio susiejimą ir pagerina klampumą. Mazgo stiprumas (izopropanolio ir etanolio poveikis iš esmės yra tas pats, o sąnaudų faktorius gali būti vertinamas masinėje gamyboje, o po to - kurį pridėti).
(5) Dejonizuotas vanduo (arba distiliuotas vanduo): prireikus pridedama skiediklio, kad pakeistų srutų skystumą.
2. Išankstinis žaliavų apdorojimas:
(1) Grafitas: A, sumaišytas, kad homogenizuotų žaliavas ir pagerintų nuoseklumą. B, 300 ~ 400 ° C atmosferos slėgio kepimo, pašalinti paviršiaus riebalines medžiagas, pagerinti suderinamumą su vandens pagrindu klijais, aplink grafito krašto paviršių (kai kurios medžiagos, kad išlaikytų paviršiaus savybes, neleidžia kepti, kitaip efektyvumas sumažėja ).
(2) Vandeninis rišiklis: Tinkamai skiedžiama, kad pagerėtų dispergavimas.
3. Maišymas, drėkinimas ir dispersija:
(1) Grafito ir rišiklio tirpalai turi skirtingą poliariškumą ir nėra lengvai išsklaidomi.
(2) Iš pradžių grafitas gali būti sudrėkintas vandeniniu alkoholio tirpalu ir sumaišomas su rišiklio tirpalu.
(3) Siekiant pagerinti dispergenciją, reikia tinkamai sumažinti maišymo koncentraciją.
(4) Dispersijos procesas yra mažinti atstumą tarp polinių ir ne poliarinių medžiagų ir padidinti galimą energiją arba paviršiaus energiją. Todėl endoterminei reakcijai maišant bendra temperatūra sumažėja. Jei sąlygos leidžia, reikia atitinkamai pakelti maišymo temperatūrą, kad būtų lengviau absorbuoti šilumą, tuo pačiu gerinant skystumą ir mažinant sklaidos sunkumą.
(5) Maišymo procesas, pvz., Vakuuminio degazavimo procesas, pašalina dujas ir skatina kietą-skystą adsorbciją, o poveikis yra geresnis.
4. Praskiesti. Srutos surenkamos iki tinkamos koncentracijos, kad būtų lengviau padengti.
Ketvirta, sudedamųjų dalių pastaba:
1. Užkirsti kelią kitų priemaišų maišymui;
2. Neleiskite purslų purškimui;
3. Kad nesusidarytų problemų, nuosėdų (kieto kiekio) koncentracija turėtų būti palaipsniui sureguliuojama nuo didelio iki žemo;
4. Siekiant užtikrinti vienodą dispersiją, atkreipkite dėmesį į dugno grandymo ir grandymo procesą.
5, srutos neturėtų būti paliktos ilgą laiką, kad būtų išvengta kritulių ar vienodumo mažinimo;
6. Siekiant išvengti sudedamųjų dalių savybių pokyčių, kepamos medžiagos turi būti užsandarintos ir atvėsintos.
7. Maišymo trukmė daugiausia grindžiama įrangos veikimu ir medžiagų papildymu; maišymo irklas pakeičiamas srutų dispersijos sunkumu. Jei pakeitimo negalima pakeisti, sukimosi greitį galima reguliuoti nuo lėto iki greito, kad nebūtų sugadinta įranga;
8. Prieš išleidimą srutos išpjaunamos, kad būtų pašalintos didelės dalelės, kad būtų išvengta pertraukimo dangos metu;
9. Sustiprinti sudedamųjų dalių mokymą, siekiant užtikrinti, kad jie turėtų patirties, kad būtų išvengta didelės nelaimės;
10, raktas į sudedamąsias dalis yra tolygiai paskleisti, valdyti centrą, kiti metodai gali būti koreguojami.